大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于浸没式人才培养的问题，于是小编就整理了1个相关介绍浸没式人才培养的解答，让我们一起看看吧。
传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？
我现在手头就有3nm的电子束曝光机，他们搞出来11nm也毫无意义，就算是asml下一代曝光机也是多束电子束直写了。搞这种光学曝光机感觉真的意义不大。如果真的想在曝光技术方面取得有意义的技术突破，那就应该在提高电子束直写效率方面下手，而不是去重复其他厂商走过的老路。
传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？据传上海微电子明年将交付可以28nm制程工艺的光刻机，经过多重曝光可以制造11nm芯片。不过这个消息上海微电子的官方消息并没有披露或回应，还没有实锤，是否真是如此还显得扑朔迷离。
国内光刻机研发进度相对比较缓慢，但因为美国对我国科技的极端打压、以及特别是国外对我国高科技技术及产品的禁运，现在可以制造低纳米的高端光刻机显得又紧迫又非常有必要。上海微电子经过18年的发展历程，在低端光刻机市场拥有不小的份额，但在中高端光刻机市场还没有冲击力，目前还仅限于90nm级制程工艺。
国外ASML的EUV光刻机可以达到13.5nm的波长，可以达到7nm制程工艺的芯片制造，经过如台积电这样的厂家制造工艺技术的研发，甚至可以达到制造5nm的芯片。而相对来说，上海微电子的距离还相当远。
明年是否能够实现28nm制程工艺的光刻机，恐怕也是外界对于上海微电子的期许，也是上海微电子自身的需要，毕竟90nm级已经出来了十多年了，还几乎停止不前也有些不太合理。据传，28nm节点的光刻机是十三五规划项目，研发单位已经由中科院光电所研发解决光源、清华团队研发双工件台、浙大团队研发浸液系统、还有长春光机所研发透镜及曝光系统等，由不同的零部件制造厂家生产，这为上海微电子加速了28nm浸没式光刻机的出世。
早前确实有相关的报道说上海微电子装备有限公司预计2021年要推出28nm光刻机，但是这一消息官方并没有进行公布，也就是它的可信度并不是很高。目前上海微电子做的光刻机还是以90nm为主，28nm技术应该还是实现不了量产。
最近老美对于华为打压升级，让芯片、光刻机等东西变得非常热门，越来越条友开始关注我们国产光刻机究竟处于什么水平，能不能摆脱对美方技术依赖。而我们国产光刻机处于比较领先的还是上海微电子，关于这个水平一直受到人们争议。
一些媒体报道说国产光刻机目前能够达到5nm水平了，而一些媒体又说国产光刻机还是处于一个90nm阶段，而在2018年时也曾经报道下面这条消息。
中科院的“超分辨光刻装备研制”通过相关验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。
上面还是处于实验室阶段，也就是离真正商用量产还是需要不少时间来检验。而关于这个5nm和90nm水平，不少朋友应该是混淆了光刻机和蚀刻机这两个不同机器。中微半导体的蚀刻机确实达到了5nm水平，而国产光刻机仍然处于90nm水平。
现阶段来说上海微电子做的还是突破达到28nm水平，因此这个11nm消息可信度一点也不高。这里一部分条友会有疑问，中芯国际前段时间已经不是替华为代工14nm工艺芯片了（荣耀Play4T搭载这款芯片）
其实这里也要明白，中芯国际用的也是荷兰ASML光刻机。目前中芯国际得到了大量的资金投资，现阶段它主要目标还是突破7nm技术，也就是未来可以代工7nm工艺芯片。
小晴观点
对于光刻机这个东西是急不得，首先这个基础的28nm也没有突破，就想着说直接达到这个11nm，确实有点像做梦一样。
想要在光刻机有所突破，一方面要加大相关的研发投入，研发如果跟不上一切都是纸上谈兵。再次就是重视相关人才培养，注重相关技术积累，同时也需要两弹一星这样的精神，才能够最快速度突破。
到此，以上就是小编对于浸没式人才培养的问题就介绍到这了，希望介绍关于浸没式人才培养的1点解答对大家有用。
